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研磨抛光技术

单面研磨抛光机加工原理

发表时间:2019-07-17
     Lapping / polishing 是经由游离颗粒(free-abrasive)作用于磨盘与平面工件之间,施以适当之压力于工件,而对工件所产生的无方向性纹路表面切削效果,当研磨颗粒变细与研磨盘 ( 抛光皮 ) 配合,则工件表面可达镜面效果,以研磨动作而言单面机为2ways。
 
     平面研磨抛光机台可应用于不同材质平面工件,于加工时同时控制磨盘平坦度,提高工件精度,降低表面粗糙度,达到奈米镜面效果,而研发部门根据客户之独特需求,提供制程解决方案,使其能达到客户全方位需求。


图标平面研磨抛光机加工时作动原理。
 
 可依制程选配各式不同客制化的功能
 
 1.磨盘冷却循环系统
 
 2.研磨液供应系统
 
 3.厚度控制治具
 
 4.POWER HEAD
 
 5.POWER ARM
 
6.摇摆机构
 
 7.厚度设定
 
 8.真空吸盘
 
平面研磨抛光机加工范例 :
不锈钢镜面模具、真空吸盘、半导体芯片(eg : silicon wafer GaAs、GaP、LiNbO3、LiTaO3、etc),水晶玻璃(Sapphire),陶瓷零件、碳化钨零件、铜铝零件、超音波焊头、震荡子零件、Ferrite,机械轴封,移印钢版、针车零件、玻璃、石英。


 
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